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      首頁 行業應用 ITO導電玻璃鍍膜前的清洗

      ITO導電玻璃鍍膜前的清洗

      ITO薄膜在基片上的附著強度不僅取決于薄膜與基片兩種 材料本身的理化性能,還與基片表面的清潔和活化程度有 關。經過清洗處理的玻璃基片在進入真空室進行鍍膜之 ,仍有可能受到環境中的塵埃和氣體分子的污染。為了 獲得實時潔凈的表面,最好的辦法是進行在線等離子清 洗。

      長期生產使用表明,經過該清洗裝置在線清洗后 所鍍的SiO2膜與ITO膜,薄膜的針孔率降低了二個數量 級,薄膜與玻璃基片的附著力提高了5倍以上。

      用人工方法產生的等離子體大致可分為高溫等離子體 與低溫等離子體。高溫等離子體技術主要用于受控熱核聚 變反應的研究。所謂低溫等離子體是指在這種等離子體中 離子與中性粒子的溫度遠遠低于電子的溫度而接近于或略 高于環境溫度。低溫等離子體可以在較低的溫度下獲得高 活性的物質,因此特別適合于在各種材料科學和微電子工 業中應用于在低溫下的化學反應??梢院敛豢鋸埖卣f,如 果沒有低溫等離子體就沒有現代的超大規模集成電路工藝 (如:等離子體干法刻蝕,氧等離子體去光刻膠,等離子體化 學氣相沉積制備二氧化硅、氮化硅、非晶硅薄膜,等等)。等ITO導電玻璃的清洗

      ITO薄膜在基片上的附著強度不僅取決于薄膜與基片兩種 材料本身的理化性能,還與基片表面的清潔和活化程度有 關。經過清洗處理的玻璃基片在進入真空室進行鍍膜之 ,仍有可能受到環境中的塵埃和氣體分子的污染。為了 獲得實時潔凈的表面,最好的辦法是進行在線等離子清 洗。

      長期生產使用表明,經過該清洗裝置在線清洗后 所鍍的SiO2膜與ITO膜,薄膜的針孔率降低了二個數量 級,薄膜與玻璃基片的附著力提高了5倍以上。

      用人工方法產生的等離子體大致可分為高溫等離子體 與低溫等離子體。高溫等離子體技術主要用于受控熱核聚 變反應的研究。所謂低溫等離子體是指在這種等離子體中 離子與中性粒子的溫度遠遠低于電子的溫度而接近于或略 高于環境溫度。低溫等離子體可以在較低的溫度下獲得高 活性的物質,因此特別適合于在各種材料科學和微電子工 業中應用于在低溫下的化學反應??梢院敛豢鋸埖卣f,如 果沒有低溫等離子體就沒有現代的超大規模集成電路工藝 (如:等離子體干法刻蝕,氧等離子體去光刻膠,等離子體化 學氣相沉積制備二氧化硅、氮化硅、非晶硅薄膜,等等)。等

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